薄膜晶体管(TFT)和液晶显示器(LCD)具有体积小、重量轻、低辐射、低耗电量、 全彩化、速度快、对比度和亮高、屏幕观察角度大、分辨率高等优点,是目前主流的平 面显示设备。TFT/LCD 的生产包括 TFT 阵列(包括薄膜、光刻、刻蚀)、彩色滤光片(包 括黑矩阵膜、红绿蓝膜、透明导电层)、面板、模组等工序。薄膜工序,通过化学气相 沉积,在玻璃基板上沉积 SiO2、SiNx、a2Si、n 型 a2Si 薄膜,使用的特种气体有 SiH4、 PH3、NH3、NF3 等;干法刻蚀工序,在等离子气态氛围中选择性腐蚀基材,通常采用 SF6、 HCl、Cl2 等气体。
太阳能电池分为晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池,薄膜太阳能电池分为非晶硅 (a-Si)薄膜和非晶/微晶硅(a-Si/μc-Si)叠层薄膜。晶体硅电池片生产中的扩散工艺用 到 POCl3 和 O2,减反射层 PECVD 工艺用到 SiH4、NH3,刻蚀工艺用到 CF4;非晶硅太阳能 电池在 LPCVD 沉积 TCO 工序用到 DEZn、B2H6;非晶/微晶硅沉积工序用到 SiH4、PH3/H2、 TMB/H2、CH4、NF3 等。
我国特种气体行业在 2006 年后进入**发展阶段,广泛应用于集成电路、显示面 板、光伏能源、光纤光缆、新能源汽车、航空航天、环保和医疗等新兴产业领域,在《十 三五国家战略新兴产业发展规划》等产业政策的推动下,特种气体的下游产业迅速发展, 同时产业创新、技术迭代带来新工艺和新产品等,不仅在规模上增加了特种气体的需求, 也进一步拓宽了特种气体的应用领域,不断产生新的特种气体产品需求。